站内搜索:
   首页 >> 仪器设备
 
微系统实验室
 

   微系统实验室现有高分辨率双面对准曝光机(美国ABM公司)、真空蒸发镀膜设备(日本ULVAC公司)、磁控溅射台(中国科学院微电子中心)、等离子体增强型化学气相沉积设备(日本Samco公司)、氧化/扩散炉(中国电子科技集团公司第四十八研究所)、多功能磁增强反应离子刻蚀机(中国科学院微电子中心)、光学外差微振动位移测量仪(日本NEOARK公司)、紫外光刻机和压电薄膜性能测试装置(自行研制)等检测设备。服务项目:压电陶瓷和硅基薄膜制备,体硅和薄膜刻蚀,微小振动和位移量测量等工作。

   主要设备:

高分辨率双面对准曝光机

等离子体增强型化学气相沉积设备(PECVD)

磁控溅射台

多功能磁增强反应离子刻蚀机

氧化/扩散炉

真空蒸发镀膜设备

 
 
公共实验中心
仪器设备性能开发基金项目申报系统
中国科学技术大学
研究生院
中国科学院大型仪器共享管理系统
中国科学院合肥战略能源与物质科学大型仪器区域中心
  Copyright@2004 By 中国科学技术大学工程与材料实验中心
地址:科大西区力学4楼107室 电话:0551-3600290 邮编:230027