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高分辨率双面对准曝光机
 

(ABM High Resolution Mask Alignment and Exposure System)

 

型号:ABM/6/350/NUV/DCCD/BSIR/M

厂商:美国ABM公司

性能指标:

 双面对准 双CCD对准系统,350W近紫外光源,红外方式背面对准,可分辨3μm图形。

 曝光   2通道恒定光强控制器,6英寸均匀光束,均匀性为 ±2~3%(Φ4²),±3~5%(Φ6²),光刻分辨率0.6μm。

使用范围:

适用于2²、3²和4²等各种硅片的曝光和光刻。

 
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