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等离子体增强型化学气相沉积设备(PECVD)
 

型号:PD-220

厂商:日本Samco公司

 

性能指标:

 成膜范围直径 大于200mm

 成膜厚度   <1μm

 成膜过程控制数字化、自动化,成膜质量稳定。

使用范围:

 可用于SiN薄膜的制备,所制薄膜可用于刻蚀掩膜层、电极钝化层和传感器与执行器的结构层。

 
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