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多功能磁增强反应离子刻蚀机
 

型号:ME-3A

厂商:中国科学院微电子中心(北京

 

性能指标:

   该设备最大刻蚀5²直径样片,均匀性优于±5%。

使用范围:

   该设备既可作反应离子刻蚀(RIE),又可作磁增强反应离子刻蚀(MERIE)。

  该设备不仅可用于常规的半导体干法刻蚀,还特别适用于亚微米和边沿陡直图形的刻蚀,可刻蚀Si3N4、Si02、Si、光刻胶和聚乙酰亚胺等材料。

 
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