站内搜索:
   首页 >> 仪器设备
 
真空蒸发镀膜设备
 

型号:VPC-410

厂商:日本ULVAC

 

性能指标:

 真空度  优于4X10-4Pa

 镀膜厚度 <150nm

使用范围:

 对小于4²的硅片等多种材料进行Au的薄膜沉积。

  

 
公共实验中心
仪器设备性能开发基金项目申报系统
中国科学技术大学
研究生院
中国科学院大型仪器共享管理系统
中国科学院合肥战略能源与物质科学大型仪器区域中心
  Copyright@2004 By 中国科学技术大学工程与材料实验中心
地址:科大西区力学4楼107室 电话:0551-3600290 邮编:230027