中心将引进新设备-高分辨场发射透射电子显微镜，该设备由日本电子株式会社生产，型号为JEM-F200。
该设备除进行常规的材料内部显微形貌、结构、晶体结构、高分辨成像、晶体位向和物相分析外，还可以利用3D 重构软件对材料的三维结构进行重构；以及利用电子能量损失普（EELS）表征不同原子及不同原子价态的分布。
该设备的引进将有效拓展中心在材料显微测试分析的范围和能力，目前该设备已经顺利通过招标。届时，欢迎各位老师和同学前来洽谈咨询。
设备主要技术指标：
Ø电子枪：冷场场发射电子枪
Ø加速电压：20-200KV，连续可调，步长50V
Ø束流：≥ 2.5nA @ 0.7nm Probe Size
Ø能量分辨率：≤ 0.3 eV
Ø图像分辨率: TEM点分辨率：≤ 0.23 nm
TEM线分辨率：≤ 0.10 nm
STEM暗场分辨率：≤ 0.16 nm
Ø放大倍数：TEM模式 ×20 - 2,000,000
STEM模式×200 - 150,000,000
Ø标准双倾杆倾斜角度：X/Y ≥ ± 35°/± 30°
Ø能量过滤分析系统: 能量分辨率: ≤ 0.5eV
图像畸变: ≤0.75%
Ø能谱系统： 探测器有效面积：≥ 2×100 mm2
能量分辨率：≤ 133 eV
元素检测范围：B-U