型号：ABM/6/350/NUV/DCCD/BSIR/M
厂商：美国ABM公司
设备参数
放大倍率：90X~600X可调
600X时图形分辨率3μm
光源：11.8mW/cm2@365nm
6英寸均匀光束
均匀性：± 2-3%（4英寸）
± 3-5%（6英寸）
光刻分辨率：1μm
曝光时间：0~999.9s
模式：接近、真空硬接触、软接触
5×5英寸真空掩模板夹持器
主要附件
匀胶机、热板
主要用途：
适用于2、3、4英寸硅片及不规则碎片和透明基片的光刻。